光PCディフューザーの原理とプロセス

光の原理PCディフューザー：化学的または物理的手段を通じて、光が途中で屈折率の異なる2つの媒体に遭遇するときの屈折、反射、散乱の物理的想像力を使用し、液晶ディスプレイ、LED照明、画像表示システムで広く使用されています。

光PCディフューザーのプロセスには、光拡散微細構造技術を準備するための押出成形およびローラーエンボス複合技術とホットエンボス法が含まれます。

紹介内容は以下の通りです。

1. 押出成形とローラーエンボス複合技術、

(a)。押出圧延法では、押出機を使用して PC シートを製造すると同時に、さまざまな種類の光拡散粒子を PC シートに添加して、さまざまな効果を備えた光拡散シートを調製できます。

(b)。同時に、この技術を使用して、PC 基板上に光 PC ディフューザー効果を備えた微細構造をエンボス加工することができ、光拡散粒子と微細構造の組み合わせを実現します。 PO および PMMA パーティクルボードは押出機で製造され、ローラー上の微細構造が押出ボードに転写されて拡散フィルムの調製が実現されます。

2. ホットエンボス法による光拡散微細構造技術の作製

ホットエンボス法では、金型の表面に微細構造を準備し、エンボス加工によって表面の微細構造をポリマーの表面に転写して、必要な微細構造を形成します。

(a) 熱可塑性フィルムを基板の表面にスピンコートします。

（b）温度が材料のガラス転移温度に達するまで加熱され、マスタープレートがフィルムの表面に押し付けられてフィルムが形成されます。

(c) 離型。

(d) エッチング洗浄により残留層を除去します。

JE はインライト PC ディフューザーの生産を専門とする工場です。詳細については、以下を参照してください。

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